印度理工学院双离子束溅射镀膜系统招标

招标类型：全球公开招标（Global Tender）

采购方式：电子采购（E-Procurement），仅接受在线投标，不接受手动投标

采购标的：双离子束溅射镀膜系统（Dual-Ion Beam Sputtering Coating System），包括原位光学厚度监测及其他配件

采购数量：1套

核心配置要求：设备需为高真空镀膜设备，配备两个离子源，能够沉积超过100层的多层膜，支持石英晶体微天平与光学监测系统同步控制膜厚

技术关键参数：镀膜室为不锈钢箱式结构，最小内尺寸1200mm×1000mm×1500mm，前后双开门设计；真空系统需在60分钟内达到≤8E-6 mbar，24小时内达到≤8E-7 mbar；基板承载能力最大尺寸400mm，厚度0.5mm以上；沉积速率大于0.2nm/s（SiO2和Ta2O5）；折射率均匀性优于±0.05%；批量间重复性优于±0.25%

资金来源：项目预算代码 MI03276G

投标保证金：无需缴纳保证金（NIL），但需提交“投标担保承诺书”（Bid Security Undertaking，见附件IX）代替保证金

履约担保：合同金额的5%（依据印度财政部2023年4月3日第F.1/2/2023-PPD号备忘录）

质保期：3年

交付周期：6个月

资格预审要求：投标人须为制造商或授权经销商，需提供制造商授权书；制造商需承诺提供技术更新支持及质保服务；制造商须为国际知名品牌；投标人或制造商需具备至少5台双离子束溅射系统成功安装经验，并提供证明文件；供应商需在印度设有服务团队，紧急情况下24小时内可派人抵达IIT德里

投标特别要求：投标截止日期前需提交成功镀膜样品，通过挂号信寄至IIT德里采购处（收件人：Deputy Registrar, Stores and Purchase section, IIT Delhi, Delhi-110016），注明招标编号；样品需达到1064nm波长下反射率99.998%，并通过光腔衰荡光谱法（CRDT）和椭圆偏振法验证

预交货支持：中标商需在中标后提供两次免费镀膜服务（含退火处理），在自有设备上为IIT德里提供的样品进行镀膜，并完成CRDT测量

验收测试：包括工厂验收测试（FAT）和现场验收测试（SAT），需满足真空度、沉积速率、膜厚均匀性、应力水平、粗糙度变化等多项技术指标

培训要求：供应商需在IIT德里提供不少于6天的操作与维护培训，分为基础操作培训和工艺优化培训两个阶段

应用与售后支持：设备安装后三年内，供应商需提供持续的应用技术支持，解答科学问题并协助工艺优化

可选配件清单：电源备份系统（支持2小时连续运行）、冷水机组、溅射靶材（Ta2O5 2片，纯度99.99%；SiO2 4片，纯度99.999%）、基板夹持板（10片）、三年期年度维护合同（AMC）

报价与货币：允许多种货币报价；进口设备按FOB/FCA原产地机场报价；IIT德里负责处理进口清关手续

价格评估规则：L1投标人评选基于主设备报价及三年AMC费用，可选配件不计入L1评估；进口报价按FOB/FCA价格评估，并按投标当日印度储备银行/印度国家银行卖出汇率折算为印度卢比

付款条件：进口设备采用不可撤销信用证支付，80%凭单付款，20%在设备安装调试合格后支付；印度本土供应商在设备交付、安装、调试并验收合格后支付100%款项

争端解决：国内供应商争端按《1996年印度仲裁与调解法》在新德里解决；国外供应商可选择UNCITRAL仲裁规则

适用法律：合同解释遵循印度法律，司法管辖地为印度新德里