东京理科大学开发新型配位纳米片合成技术 推动二维材料应用突破
2025-07-14 13:33
来源:东京理科大学
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东京理科大学科学技术研究所西原宏史教授团队在《Small》期刊发表封面文章,成功开发出两种创新方法用于可控合成配位纳米片。这项研究解决了异金属有序纳米片选择性合成的世界性难题,为下一代柔性电子和清洁能源技术提供了关键材料基础。采用镍 (Ni)、铜 (Cu) 和锌 (Zn) 等金属离子胶体溶液与苯六硫醇 (BHT) 溶液的顺序合成机制,可以选择性地生成高导电配位纳米片,同时将整体反应限制在单相

研究团队突破性地采用单相反应体系,通过精确调控镍离子与苯六硫醇(BHT)的摩尔比,首次实现了多孔NiDT和无孔NiBHT纳米片的选择性制备。与传统两相界面反应相比,新方法可生成稳定的胶体溶液,可直接用作功能性油墨或化学反应前驱体。项目负责人西原教授指出:"这项技术首次建立了配位纳米片的可控合成路径。"

在应用验证中,多孔NiDT纳米片表现出优异的电催化性能,其析氢反应活性显著优于传统材料。更引人注目的是,团队通过金属转移反应成功合成出具有高结晶性和导电性的NiCu2BHT异金属纳米片,为开发高性能电子器件开辟了新途径。

该研究的另一突破在于开发了配位纳米片的溶液加工技术。研究人员证实,这些胶体溶液可直接涂覆于各类基底,或通过印刷技术实现规模化生产。西原教授强调:"纳米片墨水技术的出现,使柔性电子设备和高效催化剂的批量制造成为可能。"

更多信息: Miyu Ito 等人,《合理设计的异金属金属二硫代烯配位纳米片及其明确的原子排列,小尺寸》(2025)。期刊信息: 小

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