三菱化学集团公司的附属公司 Gelest Inc.(宾夕法尼亚州莫里斯维尔)在其莫里斯维尔工厂开设了一家新的前体化学品工厂。

新的 50,000 平方英尺的建筑将提高 Gelest 的生产能力并支持从微电子和医疗设备到先进的热涂层和移动性的客户应用。

Gelest 高级业务总监兼总经理 Edward Kimble 表示：“我们的主要重点是开发和制造用于干法抗蚀剂 EUV 光刻的前体化学品，确保充足的供应。”

据该公司介绍，干法抗蚀剂极紫外光刻(EUV)技术是一种先进的半导体制造技术，有望推动半导体市场的下一代逻辑和动态随机存取存储器(DRAM)技术。

三菱化学集团公司的附属公司 Gelest Inc.公司表示，为了确保质量和化学纯度，该设施设有一间 3,000 平方英尺、符合 ISO 7 标准的洁净室，并配备先进的分析仪器。