维度网讯，Element集团已启动俄罗斯首台工业级真空镀膜铝金属化设备的基础设施准备工作，项目将建设专用洁净室及符合微电子生产要求的综合工程系统。

洁净室设计工作由“系统解决方案”公司承担，合同金额为2100万卢布。该公司在分子电子学研究所（НИИМЭ）的竞标中胜出。测试中心将建于泽廖诺格勒，面积约350平方米。俄工贸部为该设备研发单独拨款，2026年计划投入约20亿卢布。

该项目的目标是制造国产替代设备，以取代Applied Materials和Evatec的产品。新设备将用于在200毫米晶圆上生产采用180至90纳米工艺的芯片，可在不依赖外国系统的情况下沉积铝、钛和氮化钛层，用于形成导电路径和保护涂层。

由于设备对受控环境要求严格，项目规划了多个独立区域，包括金属化沉积区、测量单元及工程系统间。主区域需达到ISO 6级洁净度，辅助区域为ISO 8级。

洁净室内需维持严格参数：空气过滤至0.3微米颗粒，温度控制在22±2°C，湿度约50%，振动不超过6微米/秒。此外还需配备备用电源系统、超纯气体供应、冷却系统、电磁干扰控制及环境参数持续监控设施。

行业消息指出，洁净室建设是俄罗斯微电子领域最复杂且成本最高的任务之一。在西方供应受限后，此类系统的部分设备和组件仍需从国外采购，主要来源为中国。

该洁净室项目是八模块真空镀膜设备研发的一部分，该设备配备两个用于处理硅晶圆的机器人操纵器。设备制造计划于2030年9月底前完成。

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