维度网讯，美国加州大学圣塔芭芭拉分校（UC Santa Barbara, UCSB）获得美国国家科学基金会（NSF）115万美元资助，用于采购一套基于双光子光刻技术的3D快速纳米打印系统。该设备将提升UCSB纳米加工设施（Nanofab）的制造能力。

牵头该提案的首席研究员是UCSB电气与计算机工程系教授Galan Moody，合作者包括四位联合首席研究员：生物工程系的Marley Dewey、物理系的Andrew Jayich、机械工程系的Sumita Pennathur以及物理系的Andrea Young。Moody表示，这笔资助将使UCSB在一类在美国学术界仍属稀有的工具领域占据领先地位，目前该国仅有少数几所大学拥有具备此类功能的设备。

团队认为，该设备填补了现有加工方法的空白。提案指出，现有纳米加工工具虽能以约十纳米的分辨率实现半导体、电介质和金属的晶圆级平面（二维）制造，但已接近极限；要创建日益关键的三维微结构，往往需要额外复杂且耗时的步骤。Moody解释说，传统光刻技术只能将图案转移到厚度仅几百纳米的薄膜上，几乎没有在垂直维度上构建的空间。

与早期通过堆叠薄层制造三维物体的增材制造系统不同，新系统可直接在芯片上以真正三维方式打印微结构。该系统的独特能力为复杂结构和设备的纳米与微米制造开辟了新途径，不再受限于几何形状或二维平面。一个典型的应用领域是量子光子学，其中光从芯片进入光纤时的损耗是长期存在的难题。该设备可在芯片边缘或光纤上打印宽度小于50微米的聚合物透镜，以优化光学模式，使光在耦合过程中损耗最小化。