JX金属(JX Nippon Mining & Metals)于3月26日在日本茨城县日立市举行那珂新工厂开业仪式，标志着该工厂半导体用溅射靶材生产进入试运行阶段。新工厂厂房已竣工，用于溶解工序的溶解炉率先启动试运行，约160名嘉宾出席了此次活动。

该工厂聚焦半导体制造核心材料溅射靶材的生产，此次试运行是项目推进的关键节点。JX金属已决定后续强化溶解工序之外的其他生产环节，计划在2027年度下半年实现全面运营。溅射靶材是芯片制造中用于形成布线及薄膜的关键材料，此次新工厂的建设旨在进一步提升该公司在薄膜材料领域的生产能力。

此外，JX金属还考虑未来增加半导体用靶材的整体产能，并在先进材料领域探索新的投资机会。公司社长林阳一在仪式上表示，新工厂的试运行是技术升级的重要一步，公司将继续致力于满足英特尔行业的需求。