维度网讯,近日,中国金川集团铜贵股份有限公司铜箔分厂电解铜箔生产车间内,一卷8.5微米高品质HTE超薄电子铜箔实现稳定量产,标志着金川铜箔在HTE铜箔领域工艺水平跻身国内先进行列,为进军高品质市场筑牢技术根基。
HTE电子铜箔是高频通信、IC封装载板等高端电子产品的核心基础材料,8.5微米超薄规格对生产工艺要求极高。项目初期,团队首要目标是解决量产难题。超薄铜箔机械应力集中,生产中极易撕边断箔,试验初期失败频繁,一卷铜箔常因胶辊压力不均或抗拉强度不足破损。研发团队采取“车轮战术”,几人轮班值守,连续一周盯着胶辊压力、张力参数、端面质量,反复调整优化。经过数十次参数调整、上百种药剂配方尝试,优化胶辊压力参数、稳定铜箔张力控制、提高延伸率指标,最终将断箔发生率降至行业极低水平。
解决量产问题后,团队向打造远超国际标准的核心性能发起冲锋。针对原有“阶梯式电流沉积”技术,团队开展系统性优化升级,精准控制电流密度梯度变化,提升铜箔物理性能。在表面处理环节,反复打磨硅烷偶联剂工艺,动态调整药剂参数、优化涂覆方式、精准把控固化温度,强化层间结合力,控制表面粗糙度。最终,产品核心指标均远超IPC-4562国际标准,完全达到高端PCB制造严苛要求。
成功攻克核心性能与量产难题后,团队完成多轮工艺验证,对生产线各环节、参数反复校准固化,确保产品质量稳定一致。多家下游高端PCB制造企业测试验证显示,产品各项指标完全契合标准及使用要求,部分性能超出预期,成为客户“不二选择”。
从实验室小试到中试优化,再到批量生产稳定落地,8.5微米超薄电子铜箔承载着金川铜贵“创新驱动、高端突破”的发展思维。未来,金川铜贵将持续推进RTF、HVLP等高端产品研发攻关,探索高端电子材料更多可能,以硬核技术支撑高质量发展,在高端电子材料赛道走得更稳更远。
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