莫斯科“泽列诺格勒纳米技术中心”公司已完成了俄罗斯首台350纳米光刻机的研发工作，这是生产微芯片的关键设备。

索比亚宁写道：“全球有能力制造这一微芯片关键生产设备的不到10个，如今，俄罗斯也跻身其中。我们已向过渡到自主生产微电子产品和国家技术完全独立上迈出了最重要的一步。”

他还指出，俄罗斯的这一设备与外国类似设备有着非常大的不同，俄罗斯的这一设备首次使用固体激光器来作为辐射装置，而不是汞灯，固体激光器功率大、能效高、耐用性强、光谱更窄。

莫斯科“泽列诺格勒纳米技术中心”公司总经理阿纳托利·科瓦列夫说道：“我们公司已按照国家合同完成了俄罗斯首台350 纳米拓扑结构的投影式光刻机的研发工作。这一项目是与白俄罗斯“Planar”工厂合作实施完成的。在2024 年 12 月测试成功后，这一光刻机就获得了国家委员会的认可，并记录了所有申报的技术特征。目前已有客户购买了这一设备，现在这一设备的工艺流程正根据最终用户对生产的特殊要求进行调整。”

研发这一光刻机的目的是使现有的微电子生产设备现代化，并为生产某一类产品装备新的微电子生产设备，例如为电力电子和光子学领域的产品，其工作区域面积显著增加，达 22x22毫米，可加工最大直径为200毫米的晶片。

莫斯科市投资和工业政策局指出，“莫斯科科技城”经济特区入驻企业“泽列诺格勒纳米技术中心”公司研发的光刻机在各种领域(在汽车、航空航天、工业自动化和消费电子产品等)的微电子产品的生产中需求量很大。

“泽列诺格勒纳米技术中心”公司已做好了批量生产这一新设备的准备。此外，这一中心目前正在按第二份国家合同继续开展 130 纳米光刻机的研发工作，预计于 2026 年完成。