据日媒报道，日本组合化学工业株式会社宣布成功开发出用于尖端半导体存储器领域的高纯度COS(羰基硫)气体，并计划从2025财年开始销售。这一成果标志着该公司在半导体材料领域取得了重大突破。

组合化学工业自2017年与井原化学工业合并后，一直致力于拓展化学产品业务。公司发现其农用化学品中间体COS在半导体存储器(如3D NAND)制造中可作为蚀刻气体使用，因此于2019年开始开发高纯度COS气体。为了满足半导体制造对气体纯度的严格要求，公司于2021年在静冈工厂新建了一座COS纯化工厂。

近期，通过优化生产方式，组合化学工业成功实现了半导体级高纯度COS气体的商业化生产。公司计划以此为契机，进一步拓展尖端半导体存储器等新事业领域，并继续开发新的化合物和材料。