美国Bold Laser 自动化公司近期发布了LPCl1820UV激光精密清洁系统,这是一个专为高精度表面清洁和薄膜去除设计的1级工业激光平台。该系统融合了紫外纳秒激光处理、精密运动控制、先进光束调节和集成机器视觉技术,确保在严苛制造环境中实现稳定和可重复的生产结果。

LPCl1820UV激光精密清洁系统的核心部件是一个349纳米Q开关、腔内三倍频Nd:YLF紫外激光器,能提供高达120微焦的脉冲能量,并保持优异的脉冲间稳定性和光束质量。紫外波长可高效清除有机污染物、氧化物和薄膜,同时减少对底层材料的热影响,特别适用于对表面完整性要求高的应用场景。
基于Bold的LPC架构,这款激光精密清洁系统能应用于多个高价值制造领域,包括医疗设备和流体组件、微电子和先进封装、印刷电路板和半导体封装、光学、玻璃和精密金属组件,以及研发和试生产线制造环境。定制化的夹具、托盘和对接系统通过与客户协作开发,确保部件得到有效保护和高效处理。
系统由Bold的OptixOS驱动,这是一个基于CAD/CAM的数控控制环境,建立在ACS运动控制架构上。工程师可以导入标准CAD文件(如DXF/DWG),定义清洁区域和层次,并分配激光参数,无需深入掌握G代码知识,从而简化工作流程。
LPCl1820UV激光精密清洁系统被封装在符合CDRH-FDA、OSHA和NFPA标准的1级激光安全外壳中。可选配置包括洁净室兼容方案,配备HEPA过滤、惰性气体吹扫(如氮气或客户指定气体)以及中速碎屑提取系统,并配有HEPA和活性炭过滤,以满足不同生产环境的需求。









