英国南安普敦大学近日宣布启用欧洲首个、全球第二个5纳米级电子束光刻(EBL)中心，标志着英国在半导体制造领域取得重大突破。该中心采用日本JEOL公司研发的200kV加速电压直写系统(JBX-8100 G3)，可在200毫米晶圆上实现5纳米以下精度的图案化加工，厚达10微米的光刻胶中仍能保持近乎垂直的侧壁结构。

该设施位于大学蒙巴顿综合大楼820平方米的洁净室内，配备全球唯二的200kV EBL系统(首台在日本)。JEOL公司还将部署100kV系统(JBX-A9)以支持300毫米晶圆量产需求。南安普敦大学马丁·查尔顿教授表示："我们拥有30年电子束光刻经验，新设备将加速量子计算、硅光子学等前沿领域研发。"

英国科学部长帕特里克·瓦兰斯勋爵指出，这项价值475万英镑的半导体技能计划将培养行业急需人才。研究显示，每位半导体从业者年均可为英国经济贡献46万英镑。格雷厄姆·里德教授强调，该中心巩固了英国学术界在洁净室技术上的领先地位，将促进产学研深度融合。