维度网讯，I-Pulse公司已与美国商务部CHIPS研发办公室达成最终协议，获得2.5亿美元拨款，用于推进半导体与脉冲功率技术。该消息由公司联合创始人、首席执行官罗伯特·弗里德兰（Robert Friedland）与联合创始人、首席技术官洛朗·弗雷斯卡利纳（Laurent Frescaline）共同宣布。

这笔资金将支持聚焦于高温、高性能半导体组件以及专有脉冲功率钻井技术的研发活动。I-Pulse的计划将聚焦于碳化硅（SiC）半导体的开发与商业化，并与美国国家实验室、大学及专业制造合作伙伴协作。

该拨款协议是美国加强国内半导体制造、减少对进口组件依赖、并通过构建本地供应链韧性来提升国家与能源安全的更广泛努力的一部分。美国商务部长霍华德·卢特尼克（Howard Lutnick）称这项投资是强化美国能力并支持其国家与能源安全目标的一步。

I-Pulse的技术涉及高温、高压、大电流固态开关，在地下采矿、制造业、岩石破碎及国防系统等领域具有潜在应用。该公司介绍，其SiC开关旨在实现高温岩石中更高效的钻井，而其专有组件可降低地热发电项目的钻井成本。脉冲功率钻井工艺利用高压开关向地热岩层释放强力电脉冲，有助于碎裂和软化岩石，可能提升钻井速度并延长钻头寿命。

地热相关活动将通过I-Pulse的子公司G-Pulse及其在美国的其他子公司进行管理。弗里德兰表示，这笔CHIPS拨款将由位于阿尔伯克基的I-Pulse团队使用，该团队由里克·斯皮尔曼博士（Dr. Rick Spielman）和兰迪·库里博士（Dr. Randy Curry）领导，将汇聚全美公司中规模最大的脉冲功率专家群体。