维度网讯，杭州玉之泉精密仪器有限公司（玉之泉）联合浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室，近日推出“万通道3D纳米激光直写光刻机”。该设备为高端掩膜版、光子芯片及超表面等半导体与微纳制造领域提供了底层技术支撑。

玉之泉成立于2022年12月，总部位于中国杭州，创始股东由深耕光学研究多年的科研工作者和企业管理经验丰富的企业家组成，致力于解决国家“卡脖子”光刻技术难题。

双光子激光直写技术虽具备较高的加工精度，但受限于单束扫描的物理极限，难以满足大面积、高效率的产业化需求。玉之泉研发团队提出“万通道快速独立调控方案”，可瞬间生成1万多个可独立控制的并行激光焦点，并配合智能全局优化算法，将焦点阵列光强均匀度提升至95%以上，突破了传统单束扫描的效能瓶颈。

该设备在性能方面表现突出：超高打印速率可达每秒2亿体素以上；在特定工艺下，最小特征尺寸可达亚50nm；2D面扫描速率达到40平方毫米/分钟，是传统技术的几十倍，且最大加工幅面可完整覆盖12英寸晶圆。

除了用于光子掩膜版、DOE掩膜版、MEMS掩膜版等高端掩膜微纳制造领域外，该设备也适用于定制化、小批量、需要快速迭代的工艺需求。应用场景包括光子芯片与先进封装，可支持定制化、小批量的高精尖芯片研发；MEMS传感器与微流控器件，可实现复杂三维微结构的快速成型；精密光学元件，可满足超透镜、DOE器件等光学防伪与光通信领域的严苛要求。

该设备还为超表面（Metasurface）等前沿领域的规模化量产提供了核心制造设备。超表面作为未来AR/VR、激光雷达及6G通信的核心元件，传统加工往往耗时数周，万通道技术可将加工周期大幅压缩至数小时级别。目前，超表面已成为该设备首个落地且具备明显优势的加工品类，推动了相关前沿产业的商业化进程。