维度网讯，俄罗斯联邦工贸部（Минпромторг РФ）计划拨款约14亿卢布，用于研发国产硅片湿法化学处理设备。该设备是一条自动化生产线，主要对直径100、150和200毫米的硅片进行刻蚀、清洗和干燥，旨在替代目前俄罗斯企业使用的美国和日本同类产品。

样机研发招标已在政府采购门户网站上发布。根据招标条件，设备需能处理直径达200毫米的硅片，每批次最多可处理100片。设备必须至少兼容八种化学试剂，包括氢氟酸、硫酸、盐酸、氨水和过氧化氢。不同工序会使用不同的化学配方，系统必须能够在不相容物质不混合的情况下自动切换。关键部件如转子、化学品供给系统、控制器和软件须为俄罗斯国产，进口组件仅在客户同意的情况下方可使用。

工贸部计划在2029年11月前完成研发工作。执行方已于6月19日确定，但名称在政府采购系统中被隐藏。工贸部在合同签署前未透露中标者，但确认该方向将在电子机械制造计划框架内继续推进。专家解释称，湿法刻蚀是利用化学溶液均匀溶解材料表面层的处理工艺，用于去除厚层、清除污染物以及无缺陷地选择性去除材料。在批量生产的早期阶段，湿法刻蚀应用更频繁，而更精细的操作则采用等离子体化学刻蚀。后者在真空腔室内利用电离气体作用于材料，可高精度形成结构。湿法工艺成本更低，且更易于组织批量生产。

化学处理阶段决定了未来芯片的质量，因此设备必须在严格受控条件下完成硅片的刻蚀、清洗和干燥。这些过程的稳定性决定了整个工艺流程的可靠性。目前俄罗斯尚无此类设备的直接国产替代品。不过，国内在自动化、耐化学腐蚀材料和工业软件方面具备一定能力。专家推测，此次研发可能由“Элемент”集团旗下的机构承担，包括俄罗斯微电子研究所（НИИМЭ）和俄罗斯技术微电子研究所（НИИТМ）。据专家评估，所宣布的资金足以支撑试验设计工作，但无大量结余。此类项目需要长期调试、测试、在洁净室环境中工作以及多次迭代，合作情况以及技术和材料的获取将是关键因素。

2026年6月，工贸部还发布了其他微电子领域的试验设计工作招标，总资助金额为76亿卢布。这些资金计划用于研发光刻、分子束外延、离子注入控制和扫描电子显微镜所需的设备和材料。据工贸部机床制造和重工业司司长瓦列里·皮韦尼亚（Валерий Пивеня）提供的数据，该行业产量已从2023年的29.3亿卢布增长至2025年的53.2亿卢布，预计2026年该指标可能进一步增长近5%，达到55.8亿卢布。

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